산화 니켈
NiO증착 방식: PVD — Sputter & Evaporator
분류: 산화물
화학식: NiO
RF 마그네트론 스퍼터링(Si (100))으로 증착하는 p형 산화 니켈(NiO) 박막입니다. 50 nm 막 기준 굴절률 2.118 @ 587 nm, 소광계수 0이며 정공수송층·전기변색·저항 스위칭에 활용됩니다. 타깃: 순도 99.99 %, 3인치.
Specifications
Thin-Film Specifications
- Film-coated by RF magnetron sputtering vacuum < 1.0 × 10⁻⁶ Torr
- Substrate : Si (100)
- Thickness : 50 nm
- Refractive Index (n) : 2.118204 (@ 587 nm)
- Extinction Coefficient (k) : 0.000000 (@ 587 nm)
Target Specifications
- Target Material : Nickel Oxide
- Purity : 99.99%
- Diameter : 3”
Target