텅스텐
W증착 방식: PVD — Sputter & Evaporator
분류: 금속
화학식: W
스퍼터링·증발 증착으로 형성하는 텅스텐(W) 박막입니다. 내열 컨택·X선 광학에 활용됩니다. 타깃: 순도 99.95 %, 2 인치.
Specifications
Thin-Film Specifications
Target Specifications
- Target Material : Tungsten (W)
- Purity : 99.95%
- Diameter : 2”
Target