하프늄
Hf증착 방식: PVD — Sputter & Evaporator
분류: 금속
화학식: Hf
스퍼터링·증발 증착으로 형성하는 하프늄(Hf) 박막입니다. 게이트 적층·질화물 전구층에 활용됩니다. 타깃: 순도 99.95 %, 2 인치.
Specifications
Thin-Film Specifications
Target Specifications
- Target Material : Hafnium (Hf)
- Purity : 99.95%
- Diameter : 2”
Target