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티타늄

Ti
증착 방식: PVD — Sputter & Evaporator
분류: 금속
화학식: Ti

스퍼터링·증발 증착으로 형성하는 티타늄(Ti) 박막입니다. 접착·배리어층에 활용됩니다. 타깃: 순도 99.99 %, 2–3 인치.

Specifications

Thin-Film Specifications

티타늄 characterization data 1
티타늄 characterization data 2

Target Specifications

  • Target Material : Titanium (Ti)
  • Purity : 99.99%
  • Diameter : 2”, 3”
티타늄 sputtering target Target