질화 티타늄
TiN증착 방식: PVD — Sputter & Evaporator
분류: 질화물
화학식: TiN
RF 마그네트론 스퍼터링으로 증착하는 질화 티타늄(TiN) 박막입니다. 전도성·확산 방지 특성으로 전극, 하드 코팅, 플라즈모닉스에 쓰입니다. 타깃: 순도 99.99 %, 2인치.
Specifications
Thin-Film Specifications
Target Specifications
- Target Material : Titanium Nitride (TiN)
- Purity : 99.99%
- Diameter : 2”
Target