이산화 티타늄
TiO₂증착 방식: PVD — Sputter & Evaporator
분류: 산화물
화학식: TiO₂
RF 마그네트론 스퍼터링(1.0 × 10⁻⁶ Torr 이하, Si (100))으로 증착하는 이산화 티타늄(TiO₂) 광학 박막입니다. 150 nm 막 기준 굴절률 2.534 @ 587 nm(1525 nm에서 2.422), 소광계수 0으로 광학 코팅·광촉매·고유전 적층에 적합합니다. 타깃: 순도 99.99 %, 3인치.
Specifications
Thin-Film Specifications
- Film-coated by RF magnetron sputtering vacuum < 1.0 × 10⁻⁶ Torr
- Substrate : Si (100)
- Thickness : 150 nm
- Refractive Index (n) : 2.534084 (@ 587 nm) / 2.422304 (@ 1525 nm)
- Extinction Coefficient (k) : 0.000000 (@ 587 nm) / 0.000000 (@ 1525 nm)
Target Specifications
- Target Material : Titanium Dioxide
- Purity : 99.99%
- Diameter : 3”
Target