이산화 바나듐
VO₂증착 방식: PVD — Sputter & Evaporator
분류: 산화물
화학식: VO₂
반암의 시그니처 소재인 이산화 바나듐(VO₂) 열변색 박막입니다. 1.0 × 10⁻⁶ Torr 이하 진공에서 RF 마그네트론 스퍼터링으로 증착하며, Si (100) 기판에서 (-402) 배향 다결정, 저항 ON/OFF 비 10⁴ 이상, 60 °C 이하의 금속–절연체 전이를 보입니다. 스마트 윈도우·적외선 변조·열 스위칭에 활용됩니다. 타깃: 순도 99.99 %, 4인치.
Specifications
Thin-Film Specifications
- Film-coated by RF magnetron sputtering vacuum < 1.0 × 10⁻⁶ Torr
- Substrate : Si (100)
- Thickness : 150 nm
- Film Crystallinity : (-402) oriented polycrystals
- RMS Roughness : 6.917 nm
- Resistance ON/OFF ratio : > 1.0 × 10⁴
- Transition temperature : < 60 °C
Target Specifications
- Target Material : Vanadium Dioxide (VO2)
- Purity : 99.99%
- Diameter : 4”
Target