크로뮴
Cr증착 방식: PVD — Sputter & Evaporator
분류: 금속
화학식: Cr
스퍼터링·증발 증착으로 형성하는 크로뮴(Cr) 박막입니다. 접착층·포토마스크 막에 활용됩니다. 타깃: 순도 99.95 %, 3 인치.
Specifications
Thin-Film Specifications
Target Specifications
- Target Material : Chromium (Cr)
- Purity : 99.95%
- Diameter : 3”
Target